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CoFe-MnIr 박막에서 교환 바이어스 자기장의 열처리 온도 의존성 연구

한국자기학회지, Volume 31, Number 6, 31 Dec 2021, Pages 296-300
윤석수 (안동대학교 물리학과), 김동영 * (안동대학교 물리학과)
Abstract
교환 결합력을 갖는 CoFe-MnIr 박막의 교환 바이어스 자기장 HEB는 열처리 온도 Ta = 300 oC까지 증가한 후 감소하는 경향을
보였다. Ta < 300 oC에서 열처리 온도에 따른 HEB의 증가는 열적 활성화에 의한 비상보성 스핀의 정렬로 설명하였으며, Ta >
300 oC에서 보인 HEB의 감소는 M n의 열확산으로 설명하였다. 이러한 열처리는 교환 바이어스 자기장을 열처리 온도까지 일정하
게 유지하는 열적 안정화에 기여하고 있음을 알 수 있었다.

We analyzed the annealing temperature (Ta) dependence of exchange bias field (HEB) in exchange coupled CoFe-MnIr thin films.
The HEB were increased up to Ta = 300 oC and then decreased at Ta < 300 oC. The increase of HEB at Ta < 300 oC was explained by the
rearrangement of uncompensated spin by thermal activation. While, the decrease of HEB at Ta > 300 oC was explained by the Mn
interdiffusion. These thermal annealing effect contributed to the thermal stability of HEB maintaining constant values up to annealing
temperature.
Keywords: 교환 바이어스; 비상보성 스핀; Mn 열확산; 열처리; exchange bias; uncompensated spin; Mn interdiffusion; thermal annealing
DOI: https://doi.org/10.4283/JKMS.2021.31.6.296